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"Kento Higa"

比嘉 健人 (HIGA, Kento)

出身地

東京都

出身大学

明治大学

趣味

筋トレ，ゲーム，旅行，バドミントン

E-mail

kento.higa＠as.cls.iir.isct.ac.jp（＠を半角に変えてご利用ください）

原著論文 - Original Papers -

    総説・本 - Reviews and Books -

    • 熱／光刺激応答性プライマーによる易解体性界面
      比嘉 健人，宍戸 厚，相沢 美帆
      塗装工学, 60(10), 365–372 (2025).

    受賞 - Award -

    • 第15回CSJ化学フェスタ2025 優秀ポスター発表賞 （2025年11月27日）
      光⼆量化条件の検討によるアントラセン含有分⼦層中の化学結合制御が剥離挙動に与える効果
      修士課程2年　比嘉 健人
    • 第63回日本接着学会年次大会 優秀ポスター賞 （2025年6月30日）
      パターン光で結合形成部位を空間制御した易解体性プライマーによる異方的接着
      修士課程2年　比嘉 健人
    • 高分子学会関東支部第11回神奈川地区講演会 優秀発表賞　(2024年12月20日)
      パターン露光による刺激応答性分子層の剥離挙動への影響
      修士課程1年　比嘉 健人

    国際学会発表 - International Conferences -

    • Correlation between the Photodimer Content within Stimuli-Responsive Molecular Layers at Adhesion Interfaces and Peel Behavior
      Kento Higa, Miho Aizawa, Atsushi Shishido
      IUPAC-PSK50, Busan (Korea), POS4-0812, 8:30-9:30, September 29, 2026.
    • Effect of Exposure Conditions on Switchable Adhesion Using Stimulus-Responsive Primers
      Kento Higa, Miho Aizawa, Atsushi Shishido
      International Forum on Energy & Informatics 2025, Diamond Cliff Resort & Spa, Phuket, Thailand, session11-2, 16:15-16:30, December 14, 2025.
    • Effect of Light Irradiation Conditions on Adhesion Properties of Molecular Layers Containing Anthracene Photodimers
      Kento Higa, Miho Aizawa, Atsushi Shishido
      2025 KJF International Conference on Organic Materials for Electronics and Photonics (KJF-ICOMEP 2025), Osaka International Convention Center (Grand Cube Osaka), 2H-006, 17:20-18:30, August 27, 2025.

    国内学会発表 - Domestic Conferences -

    • 異方的接着を志向した刺激応答性分子層パターニングにおける光二量化の影響
      比嘉 健人，相沢 美帆，宍戸 厚
      第75回高分子討論会，東京（東京理科大学 葛飾キャンパス），2Pf068，2026年9月3日，16:00-16:40.
    • 光二量化条件の検討によるアントラセン含有分子層中の化学結合制御が剥離挙動に与える効果
      比嘉 健人，相沢 美帆，宍戸 厚
      第15回CSJ化学フェスタ2025，東京（タワーホール船堀），P4-102，2025年10月23日，10:00-12:00.
    • 刺激応答性分子層により化学結合形成部位を空間制御した接着界面からの異方的解体
      比嘉 健人，相沢 美帆，宍戸 厚
      第74回高分子討論会，大阪（関西大学 千里山キャンパス），3N01，2024年9月18日，9:00-9:15.
    • パターン光で結合形成部位を空間制御した易解体性プライマーによる異方的接着
      比嘉 健人，相沢 美帆，宍戸 厚
      第63回 日本接着学会年次大会，宮城（仙台国際センター），P31A，2025年6月30日，15:00-16:00.
    • パターン形成した刺激応答性分子層による剥離方向に対する接着挙動の制御
      比嘉 健人，相沢 美帆，宍戸 厚
      プラスチック成形加工学会第36回年次大会，東京（タワーホール船堀），SP-31，2025年6月18日，12:30-13:20.
    • 刺激応答性分子層パターニングによる異方的接着挙動の発現
      比嘉 健人，相沢 美帆，宍戸 厚
      日本化学会第105春季年会(2025)，大阪（関西大学 千里山キャンパス），G3401-2am-14，2025年3月27日，11:30-11:40.
    • 結合形成部位のパターニングを施した刺激応答性分子層による異方的接着挙動
      比嘉 健人，相沢 美帆，宍戸 厚
      高分子学会関東支部 第11回神奈川地区講演会，神奈川（東ソー東京研究セミナー），P18，2024年12月20日，15:30-16:15.
    • パターン露光による刺激応答性分子層の剥離挙動への影響
      比嘉 健人，相沢 美帆，宍戸 厚
      第14回CSJ化学フェスタ2024，東京（タワーホール船堀），P3-122，2024年10月22日，16:00-18:00.